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　　全新自行研制的可完全覆盖90-28nm的掩模图形缺陷检测设备Raptor-600正式发运国内头部晶圆厂

　　掩模版是芯片光刻工艺的核心“母版”，其品质直接关系到晶圆生产的良品率。Raptor-600搭载了自研的高分辨率透反射双光路紫外成像系统与纳米级高精度运动平台，能够精准识别影响掩模品质及光刻良率的各类缺陷，实现微米级检测精度。该设备在快速检出图形缺损、表面污染物等问题的同时，有效规避了辅助图形干扰，大幅提升了识别精度与作业适配性，可满足掩模制造厂与晶圆厂全流程品质管控需求。

　　作为国家级专精特新“小巨人”企业，御微半导体长期深耕集成电路光学量检测装备的研发与制造，掌握了光学成像、纳米运动控制等底层核心技术。其产品已广泛应用于芯片制造、光罩制造等关键环节，并成功服务于国内多家头部客户。此次Raptor-600的成功发运，是企业在攻坚半导体关键核心技术、推动高端量检测装备国产化进程中迈出的坚实一步。