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　　光刻机的光线，对应的就是光刻胶的种类，不能混用，且光刻胶的品质，也决定了芯片的良率等。

　　而在所有的光刻胶之中，日本是处于垄断地位的，合计占到了全球份额的80%，越高端的，占有率越高，并且像EUV光刻胶，更是只有日本才能够生产。

　　并且，大家要注意的是，就算国产化率达到了28%，看起来国内也确实能够制造一些相对先进的ArF、ArF光刻胶了，但其生产线上的设备，以及原料大多还是从国外进口的，也就是说并不是实现了自主独立。

　　而现在，终于有一家企业搞定了全流程自主光刻胶产线，实现“有机合成—高分子合成—精制纯化—光刻胶混配”全链条自主制备。

　　这条生产线，可以制造KrF/ArF高端光刻胶，已经可覆盖 90nm 至 28nm 制程节点，后续还可能再覆盖至14nm等更先进工艺。